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Eksma 防反射鍍膜

簡要描述：Eksma 防反射鍍膜
這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

  • 產(chǎn)品品牌：Eksma
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時間：2021-03-22
  • 訪  問  量：859

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細(xì)介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 防反射鍍膜




Eksma 防反射鍍膜

這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。

產(chǎn)品介紹

這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

ø25.4 mm光學(xué)元件的價格表

激光線抗反射鍍膜

型號

基材尺寸

波長

R,%(AOI=0°)

LIDT激光損傷閾值

AR266

≤ ø 25.4 mm

266 nm

R<0.4%

1 J/cm²

AR343

≤ ø 25.4 mm

333-353 nm

R<0.5%

3 J/cm²

AR343HT

≤ ø 25.4 mm

333-353 nm

R<0.2%

4 J/cm²

AR355

≤ ø 25.4 mm

355 nm

R<0.25%

3 J/cm²

AR355HT

≤ ø 25.4 mm

355 nm

R<0.2%

4 J/cm²

AR400

≤ ø 25.4 mm

380-420 nm

R<0.5%

3 J/cm²

AR400HT

≤ ø 25.4 mm

380-420 nm

R<0.2%

4 J/cm²

AR515

≤ ø 25.4 mm

500-530 nm

R<0.3%

5 J/cm²

AR515HT

≤ ø 25.4 mm

500-530 nm

R<0.1%

7 J/cm²

AR532

≤ ø 25.4 mm

532 nm

R<0.2%

5 J/cm²

AR532HT

≤ ø 25.4 mm

532 nm

R<0.1%

7 J/cm²

AR800

≤ ø 25.4 mm

760-840 nm

R<0.4%

8 J/cm²

AR800HT

≤ ø 25.4 mm

760-840 nm

R<0.1%

10 J/cm²

AR1030

≤ ø 25.4 mm

1000-1060 nm

R<0.3%

10 J/cm²

AR1030HT

≤ ø 25.4 mm

1000-1060 nm

R<0.1%

15 J/cm²

AR1064

≤ ø 25.4 mm

1064 nm

R<0.2%

10 J/cm²

AR1064HT

≤ ø 25.4 mm

1064 nm

R<0.1%

15 J/cm²

雙波段抗反射鍍膜

型號

基材尺寸

波長

R, %(AOI=0°)

LIDT激光損傷閾值

ARD800HT

≤ ø 25.4 mm

400+800 nm

R<0.2%

4 J/cm²

ARD1030

≤ ø 25.4 mm

515+1030 nm

R<0.5%

4 J/cm²

ARD1030HT

≤ ø 25.4 mm

515+1030 nm

R<0.1%

6 J/cm²

ARD1064

≤ ø 25.4 mm

532+1064 nm

R<0.5%

4 J/cm²

ARD1064HT

≤ ø 25.4 mm

532+1064 nm

R<0.1%

6 J/cm²

寬帶減反射膜

型號

基材尺寸

波長

R, %(AOI=0°)

激光損傷閾值

ARB300

≤ ø 25.4 mm

210-400 nm

R<2%

1 J/cm²

ARB550

≤ ø 25.4 mm

400-700 nm

R<0.9%

2 J/cm²

ARB625

≤ ø 25.4 mm

350-900 nm

R<1.5%

2 J/cm²

ARB825

≤ ø 25.4 mm

650-1100 nm

R<0.7%

3 J/cm²

ARB800

≤ ø 25.4 mm

700-900 nm

R<0.5%

3 J/cm²

ARB800HT

≤ ø 25.4 mm

700-900 nm

R<0.1%

5 J/cm²

ARB1000HT

≤ ø 25.4 mm

900-1100 nm

R<0.1%

5 J/cm²

ARB1375

≤ ø 25.4 mm

1050-1700 nm

R<0.7%

2 J/cm²

Laser Line AR coatings

鍍膜型號

波長

反射率, %

損傷閾值

AOI=0°

AOI=45°

nm

AOI=0°

AOI=45°

Threshold

3005-i0

3005-i45

193

< 1.0

<2.0

1 J/cm2
in 10 ns

3007-i0

3007-i45

248

< 0.8

<1.5

1.5 J/cm2
in 10 ns

3009-i0

3009-i45

266

< 0.4

<1.0

1.5 J/cm2
in 10 ns

3011-i0

3011-i45

308

<0.3

<0.6

1.5 J/cm2
in 10 ns

3014-i0

3014-i45

343

<0.25

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3015-i0

3015-i45

351-355

< 0.25

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3017-i0

3017-i45

400

< 0.25

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3021-i0

3021-i45

488-514

< 0.3

<0.5

2 J/cm2
in 10 ns

3023-i0

3023-i45

515

< 0.2

<0.5

4 J/cm2
in 10 ns

3025-i0

3025-i45

532

< 0.2

<0.5

4 J/cm2
in 10 ns

3027-i0

3027-i45

633-650

< 0.25

<0.5

4 J/cm2
in 10 ns

3031-i0

3031-i45

780

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3033-i0

3033-i45

800

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3035-i0

3035-i45

850

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3036-i0

3036-i45

1030

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3037-i0

3037-i45

1064

< 0.2

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3041-i0

3041-i45

1320

<0.3

<0.5

5 J/cm2
in 10 ns

3045-i0

3045-i45

1547

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。

雙波段增透膜

鍍膜型號

波長, nm

反射率, %

損傷閾值

AOI=0°

AOI=45°

 

AOI=0°

AOI=45°

Threshold

3106-i0

3106-i45

266 + 532

<0.5

<1.0

1.5 J/cm2
in 10 ns

3110-i0

3110-i45

355 + 532

<0.5

<1.0

2 J/cm2
in 10 ns

3114-i0

3114-i45

355 + 1064

<0.5

<1.0

2 J/cm2
in 10 ns

3118-i0

3118-i45

400 + 800

<0.5

<1.0

3 J/cm2
in 10 ns

3121-i0

3121-i45


515 + 1030

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3122-i0

3122-i45

532 + 1064

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3126-i0

3126-i45

670 + 1064

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3127-i0

3127-i45

808 + 1064

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3130-i0

3130-i45

1064 +1320

<0.5

<1.0

4 J/cm2
in 10 ns

3134-i0

3134-i45

1064 +1570

<0.5

<1.0

3 J/cm2
in 10 ns

請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。

寬帶增透膜

寬帶抗反射BBAR鍍膜設(shè)計用于在特定波長范圍內(nèi)將組件的反射率降低至接近零。因此，光可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因眩光和散射而丟失。我們的增透膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

鍍膜型號

波長, nm

反射率, %

損傷閾值

AOI=0°

AOI=45°

 

AOI=0°

AOI=45°

Threshold

3205-i0

3205-i45

210-400

<2

<3

1.5 J/cm2
in 10 ns

3207-i0

3207-i45

250-350

<1.2

<2.5

1.5 J/cm2
in 10 ns

3209-i0

3209-i45

300-400

<1.0

<2.0

1.5 J/cm2
in 10 ns

3211-i0

3211-i45

350-500

<0.8

<1.6

2.0 J/cm2
in 10 ns

3213-i0

3213-i45

350-900

<1.5

<3.0

2.0 J/cm2
in 10 ns

3215-i0

3215-i45

400-550

<0.4

<0.8

2.5 J/cm2
in 10 ns

3217-i0

3217-i45

400-700

<0.9

<1.8

3.0 J/cm2
in 10 ns

3219-i0

3219-i45

420-680

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3221-i0

3221-i45

450-750

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3223-i0

3223-i45

500-800

<0.6

<1.2

3.0 J/cm2
in 10 ns

3224-i0

3224-i45

500-1000

<1.5

<3.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3225-i0

3225-i45

600-900

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3227-i0

3227-i45

750-900

<0.5

<1.0

3.0 J/cm2
in 10 ns

3229-i0

3229-i45

800-1200

<0.7

<1.4

2.5 J/cm2
in 10 ns

3231-i0

3231-i45

1000-1400

<0.7

<1.4

2.0 J/cm2
in 10 ns

3232-i0

3232-i45

1050-1700

<1

<1.5

2.0 J/cm2
in 10 ns

3233-i0

3233-i45

1300-1700

<0.7

<1.4

2.0 J/cm2
in 10 ns

3235-i0

3235-i45

1500-2000

<0.7

<1.4

1.5 J/cm2
in 10 ns

這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。

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