簡要描述:Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光電機械適配器和精密光電機械支架840-0197。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片,它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。
詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器
Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器
具有?17 mm透明孔徑的可變衰減器,由兩個薄膜Brewster型偏振片和一個安裝在精密光機械裝置中的波片組成。衰減器設計允許在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制兩個出射光束之間的強度。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束可手動調(diào)節(jié)強度比的平行束
?大動態(tài)范圍
?透射光束偏移?0.5毫米
?高光學損傷閾值
?S-Pol衰減范圍?0.25%-99.0%
?P-Pol衰減范圍?0.5%-95.0%
該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光電機械適配器和精密光電機械支架840-0197。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片,它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。
可以通過旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°,并獲得較大的偏振對比度。
注意:可移動基座820-0090,桿架820-0050-02和標準桿應單獨訂購。
產(chǎn)品型號
適用于Nd:YAG激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0070-355 | 355 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0070-532 | 532 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0070-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0070-257 | 257 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-266 | 266 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-343 | 343 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400 | 400 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400B | 390-410 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515 | 515 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515B | 505-525 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800 | 800 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800B | 780-820 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030 | 1030 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030B | 1010-1050 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于高功率飛秒激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0070-257H | 257 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-266H | 266 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-343H | 343 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400H | 400 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400HB | 390-410 | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515H | 515 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515HB | 505-525 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800H | 800 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800HB | 780-820 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030H | 1030 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030HB | 1010-1050 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
對于Nd:YAG應用
通光孔徑 | 17 mm |
損害閾值 | 5 J/cm2 |
偏振比(一個偏振片之后) | >1:200 |
偏振比(二偏振片之后) | >1:500 |
飛秒應用
通光孔徑 | 17 mm |
損害閾值 用于大功率激光應用 | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
時間分散 |
|
偏振比(一個偏振片之后) |
|
偏振比(二個偏振片之后) |
|
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品咨詢
電話
微信掃一掃